A5: 오늘은 실험을 할 것인가?

 

– substrate condition이 그 위에 growing 되는 molecular material의 구조에 영향을 미치기 때문에[], 이 연구실 첫 과제로 어떻게 substrate를 준비하는지 연습하게 될 것 같았는데.. 이 a5-research-lab-first-overview-in-molfks 글에 어떤 substrate를 만들 겠구나 써 놓은 게  6월 25일 인데, 오늘은 7월 20일 이다. 어찌 어찌 하다보니 한 달동안이나 별거 하지 않았다.
 
– 오늘은 뭔가 할 거 같이 어제 이야기 했는데 흠.. 과연 
 
– 그 동안 할 것은 여기 실험실에서 만든 논문들 읽어 봤고,,, 단 다 읽어보진 않았고 초록만 읽어 보았다. 대충 이 연구실에서 하는 것은 분자 orientation을 관측하거나, 통제하거나 특정한 orientation 으로 정렬된 분자 solid의 물리학적 특성을 측정하는 것이었다. 
 
 
– transistor performance 측정하는 software가 문제가 있다고 하길래, 나는 시간도 많고 논문만 보는 것도 지루해서 내가 좀 가지고 돌아도 돼냐고 물봤었다. 그리고 우연하게도 한 2-3일 가지고 놀았더니 뭐가 정말 돼었다. 측정시에 적절한 gate voltage가 나타나지 않고 short circuit이 어디선가 만들어지는냥 gate voltage가 표기 되었었는데, 갑자기 gate voltage가 적절하게 변화되고, 측정되었다. 
내가 유용하게 쓰인거 같아서 잠깐 행복했는데, 정말 잠깐만 행복했어서 오히려 좀 슬퍼졌다.. 
 
– 오늘은 Ag sheet substrate를 polycrystalline sufrace로 만들기 위한 sputtering을 할 것인가? 
 
우선 갑자기 궁금해 졌다. spttering 방식으로 polycrystalline 이 만들어지나? 어떻게 만들어지나? roughness는 어떠한가? 
 
 
nGailly, Patrick, et al. “Ripple topography and roughness evolution on surface of polycrystalline gold and silver thin films under low energy Ar-ion beam sputtering.” Applied Surface Science 258.19 (2012): 7717-7725.
 
► Ripple topography measured on gold and silver films sputtered with Ar+ 650 eV is compared to theory.
► Ripples were always oriented parallel to the ion beam direction. 
► Ripples wavelength decreased with increasing energy and ion flux. 
► Three regimes for roughness evolution have been observed as function of the angle of incidence. 
► The lower roughness observed around 45° on gold and 60° on silver films is promising for polishing applications.
 
-> 이 논문을 보아하니 AFM 으로 polycrystalline을 확인하는군. 우리 실험에서도 그렇게 할까?
 
그런데 막상 Sputter deposition 으로 200nm를 만든다고 되어 있는데, 이 roughness는 어느정도 될까?
 
 
 
=> 결국 하지 않았다고 한다. 
 

 

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